TERGITOL TMN-10 هو نشاط سطحي غير أيوني مبني على إيثوكسيلات الكحول الثانوية المتفرعة ، مصممة لتقديم سلوك ترطيب قوي وتنظيف وتشتت في الأنظمة المائية. يوفر تغطية سطحية سريعة واستقرار تخفيف ممتاز ومعالجة صيغة سلسة ، مما يسمح للمستخدمين بالحصول على أداء متسق عبر أنظمة التنظيف الصناعية ، ومخامات الصبغات ، وتشتت الراتنج والمستحلبات عالية النشاط. يدعم ملف تعريف HLB المتوازن دمجه في تركيبات الزيت في الماء ، في حين يحافظ سلوك نقطة السحابة العالية على الوضوح والوظيفة أثناء معالجة درجات الحرارة المرتفعة.

• قيمة HLB عالية - TERGITOL TMN-10 لديها قيمة HLB حوالي 14.4 ، مما يدعم السلوك الفعال في مستحلبات الزيت في الماء وتحسين توزيع مجموعات النشاط السطحي. تؤكد تقييمات معدل الترطيب المختبرية الاختراق السريع عبر الركائز المائية ، مما يتيح أداء مستقر في الأنظمة التي تتطلب كفاءة عالية في الاستحلاب.

  
  

• ترطيب سريع - مع لزجة تبلغ حوالي 96 مم مربع في الثانية عند درجة مئوية 25 درجة مئوية، ينتشر TERGITOL TMN-10 بسرعة عبر الأسطح الصلبة والبوليمرية، مما يقلل من تأثيرات التوتر السطحي ويحسن توحيد الاتصال. تظهر قياسات سرعة الترطيب سلوك الانتشار المسيطر عليه الذي يعزز استقرار العملية في عمليات الطلاء والتنظيف والتخفيف.

  
  

• تشتت قوية - تدعم قياسات الكثافة حوالي 1.042 عند 20 درجة مئوية قوة تشتت قوية ، مما يساعد على الحفاظ على التوزيع المتساوي للصبغات والشموع والجسيمات الصلبة. تظهر طيانات الاختبار المعدة باستخدام TMN-10 انخفاض التراكز وتحسين توحيد التعليق في كل من درجات الحرارة المحيطة والمرتفعة.

  
  

• نطاق هلام ضيق - يعرض النشط السطحي ملف تعريف انتقال هلام ضيق يستقر اللزوجة أثناء تخفيف الأنظمة عالية النشاط. تشير الملاحظات الريولوجية إلى سلوك مرحلة هلام قابل للتنبؤ يساعد على الحفاظ على المعالجة السلسة ويقلل من اختلاف الصيغة في المزيجات المركزة.

  
  

• نقطة السحابة العالية - توفر TMN-10 نقطة سحابة قريبة من 76 درجة مئوية ، والحفاظ على الوضوح والأداء تحت درجات حرارة المعالجة المرتفعة. تؤكد اختبارات استقرار المرحلة الحد الأدنى من الفصل بالقرب من عتبة نقطة السحابة ، مما يضمن وظيفة موثوقة في التشطيب النسيجي والمنظفات الصناعية وأنظمة التشتت في درجات الحرارة الدافئة.

  
  

• نظام غير أيوني - كعامل سطحي نشط غير أيوني، تظهر TERGITOL TMN-10 التوافق مع العوامل الأنيونية والكاتيونية وغيرها من العوامل غير الأيونية عبر نطاق درجة الحموضة الواسع. تظهر اختبار التوافق سلوكًا مستقرًا مع أنظمة النشاط السطحي المختلطة ، مما يوفر مرونة لتركيبات التنظيف المؤسسية ، ومخامات CMP وتشتتت الصبغات.

• معالجة النسيج - يعزز TERGITOL TMN-10 الاختراق والترطيب في حمامات معالجة النسيج ، مدعومة بقيمة HLB حوالي 14.4 ونطاق نقطة السحابة القريب من 76 درجة مئوية. تظهر تجارب العملية توزيع كيميائي موحد أثناء عمليات التعبئة والتنظيف بدرجات حرارة تصل إلى 70 درجة مئوية ، مما يحسن الاتساق في خطوط النسيج المستمرة.

  
  

• أنظمة الصبغة والراتنج - تحسن TMN-10 تشتت الصبغة والشمع / الراتنج ، بدعم من كثافتها حوالي 1.042 وسلوك توزيع قوي. تظهر تركيبات الطلاء والحبر التي تحتوي على TMN-10 انخفاض التجمع وأداء لون أكثر توحيدًا ، خاصة في أنظمة الطلاء القائمة على الماء التي تتطلب التشتت المتحكم فيه.

  
  

• التنظيف الصناعي - في المنظفات المؤسسية والصناعية، توفر TMN-10 نظافة قوية مدعومة بلزوجتها القريبة من 96 مم مربع في الثانية واستقرارها في درجات الحرارة العالية. تظهر اختبار أداء التنظيف إزالة التربة الفعالة والوضوح المستقر أثناء التخفيف عند 40-60 درجة مئوية ، مما يجعلها مناسبة لسوائل معالجة المعادن والمنظفات المؤسسية ومزيدات الدهون عالية النشاط.

  
  

• الورق والطلاء - يستخدم TMN-10 في تطبيقات معالجة الورق والطلاء حيث تتطلب ترطيب سريع وتوزيع موحد. تؤكد تقييمات آلة الطلاء النشاط السطحي النشط المستمر عند 70-75 درجة مئوية ، وطبيعتها غير الأيونية تقلل من التفاعل مع المربطات ، ودعم وضع الطلاء المستقر أثناء التشطيب الورقي عالي السرعة.